公衍生
【姓名】 公衍生
【职称】
【研究领域】 材料科学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 功能薄膜,IrO2薄膜,基片温度,微观结构,脉冲激光沉积技术,氧化物,沉积温度,氧化物薄膜,薄膜材料,晶粒尺寸,磁性,超导,表面粗糙度,原子力显微镜,拉曼光谱,氧分压,ITO薄膜,扫描电镜,研究新进展...
【工作单位】 武汉理工大学
【曾工作单位】 武汉理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]夏明祥;王传彬;公衍生;沈强;张联盟;.脉冲激光沉积技术制备IrO_2薄膜的研究[J]稀有金属材料与工程.2006,(05)
[2]公衍生;王传彬;沈强;张联盟;.硅基氧化铱薄膜的脉冲激光沉积及其微观结构研究[J]真空科学与技术学报.2006,(05)
[3]公衍生,王传彬,沈强,张联盟.氧化物功能薄膜材料的研究新进展[J]中国表面工程.2004,(04)
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