吴艳丽
【姓名】 吴艳丽
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 MPCVD,金刚石薄膜,生长速率,沉积金,石墨碳,汉化,工程系,材料科学,碳源浓度,等离子体物理研究所,湖北武汉,工学院,沉积气压,气相,安徽合肥,石墨,中国科学院,不饱和状态,微波等离子体,crys...
【工作单位】 武汉化工学院
【曾工作单位】 武汉化工学院;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]王传新,汪建华,马志斌,满卫东,王升高,吴艳丽,陈章.采用石墨碳源沉积金刚石薄膜[J]武汉化工学院学报.2002,(04)
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