陈永生
【姓名】 陈永生
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 微细加工技术方面的研究
【发表文献关键词】 刻蚀,刻蚀速率,电子回旋共振,多晶硅,聚合物层,Ar气,ECR等离子体,硅刻蚀,离子能量,离子密度,气对,向异性,子体,原子,反应层,射频偏置,多晶,含量的增加,C原子,气压,气体流量,CHF3,氟碳...
【工作单位】 武汉化工学院
【曾工作单位】 武汉化工学院;
【所在地域】 湖北武汉
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[1]陈永生,汪建华.氩气对多晶硅刻蚀的影响[J]表面技术.2003,(02)
[2]陈永生,汪建华.多晶硅的ECR等离子体刻蚀[J]武汉化工学院学报.2003,(01)
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