任卫
【姓名】 任卫
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Hall效应,Fe离子,Rutherford,背散射,光电子能谱,LSS理论,投影射程,注入层,Al_2O_3陶瓷,晶格损伤,氧化铝,受主能级,浓度分布,多晶,电学性能,材料表面,陶瓷,面电阻率,谱峰...
【工作单位】 武汉工业大学
【曾工作单位】 武汉工业大学;
【所在地域】 武汉
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[1]李世普,王国梅,邢宁,任卫,陈晓明.铁注入Al_2O_3陶瓷及退火改变材料表面电阻率的研究[J]核技术.1990,(12)
[2]李世普,王国梅,任卫,邢宁,陈晓明.Fe~(2+)注人Al_2O_3陶瓷及其退火改善材料表面电学性能的研究[J]硅酸盐学报.1990,(03)
[3]李世普;任卫;王国梅;邢宁;陈晓明;.Fe离子注入Al_2O_3陶瓷改变其表面电阻率的研究[J]武汉工业大学学报.1990,(04)
[4]李世普,樊东辉,王国梅,邢宁,任卫.Fe离子注入多晶Al_2O_3的光电子能谱研究[J]物理学报.1991,(06)
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