程世昌
【姓名】 程世昌
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 低能离子束,非晶碳膜,射频等离子体,类金刚石膜,离子束,电阻率,空间电荷效应,负偏压,单晶硅衬底,物理性质,电子伏,银离子,减速系统,衬底温度,计算机模拟计算,束径,离子轰击,质量分析,导电类型,光带...
【工作单位】 武汉大学
【曾工作单位】 武汉大学;
【所在地域】
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[1]程世昌;.低能离子束沉积形成的Ag/Si薄膜[J]真空科学与技术.1983,(03)
[2]程世昌.低能离子束的形成[J]微细加工技术.1984,(02)
[3]程世昌,张辉,刘石柱,凌高宏.射频等离子体法在单晶硅衬底上形成的非晶碳膜及其性质[J]核技术.1987,(01)
[4]程世昌,张辉,付德君.类金刚石膜的制备及其物理性质[J]真空科学与技术.1987,(05)
[5]程世昌,傅德君,吴周桥,张维琴.类金刚石膜的电阻率及光吸收特性研究[J]真空科学与技术.1988,(05)
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