王为成
【姓名】 王为成
【职称】
【研究领域】 预防医学与卫生学;化学;药学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 吸附伏安法,修饰电极,微分脉冲,电极溶出,烷基,痕量铅,双硫腙,钴,化学修饰,伏安法,人体,化学修饰电极,发铅,吸电子,电负性,电解电位,电子效应,痕量钴,峰高,痕量镍,电化学,峰电流,血铅,预电解,...
【工作单位】 同济医科大学
【曾工作单位】 同济医科大学;
【所在地域】 武汉
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[1]张炎有，王爱兰，吴蒙，王为成.烷基电子效应之管见[J]高等函授学报(自然科学版).1995,(02)
[2]乔文建,李桂玲,王为成,李勇.双硫腙化学修饰电极溶出伏安法测定人体中痕量铅[J]同济医科大学学报.1989,(03)
[3]王为成,乔文建,李金芳.应用微分脉冲吸附伏安法测定人体中痕量钴[J]同济医科大学学报.1991,(01)
[4]王为成;甘开万;.以氢原子的电负性为标准烷基的诱导效应是吸电子[J]化学通报.1991,(08)
[5]李金芳,乔文建,王为成.微分脉冲吸附伏安法连续测定人体中痕量镍和钴[J]同济医科大学学报.1992,(03)
[6]李金芳,王为成,乔文建.巯基棉富集-阴极溶出伏安法测定矿泉水中痕量硒[J]同济医科大学学报.1992,(04)
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