金桂
【姓名】 金桂
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁控射频反应溅射,电击穿场强,沉积速率,表面形貌,二氧化硅薄膜,射频磁控溅射,快速热处理,溅射功率,折射率,氧分压,射频反应溅射法,射频功率,平均粗糙度,氧气含量,制备与性能,表面粗糙度,反应溅射沉积...
【工作单位】 中南大学
【曾工作单位】 中南大学;
【所在地域】 长沙
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 1 1 1 32 899
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]金桂;周继承;.射频磁控溅射SiO_2薄膜的制备与性能研究[J]武汉理工大学学报.2006,(08)
更多