张四方
【姓名】 张四方
【职称】
【研究领域】 核科学技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 剂量仪表的刻度,总不确定度,电离室,剂量计,照射量率,刻度因子,射线源,刻度方法,射线束,标准源,不稳定性,射线剂量,测量法,原子能,焦斑,标准仪器,辐射防护仪,辐射场,系统误差,线性检验,
【工作单位】 中国原子能科学研究院
【曾工作单位】 中国原子能科学研究院;
【所在地域】 北京
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[1]韩奎初,万兆勇,张四方,胡家成.治疗水平与防护水平X、γ射线剂量仪表的刻度[J]原子能科学技术.1985,(05)
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