温宇峰
【姓名】 温宇峰
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】 敏感材料与元器件
【发表文献关键词】 基片,铂薄膜热敏电阻,基片温度,氧化钒薄膜,Pt薄膜,电阻温度系数,VOx薄膜,VO_x,真空蒸发,真空蒸发法,磁控溅射,V_2O_5,热敏,五氧化二钒,氧化钒,电阻,V2O5粉末,薄膜结构,靶材,衍...
【工作单位】 天津大学
【曾工作单位】 天津大学;
【所在地域】 天津
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[1]吴淼,胡明,温宇峰.基片温度对氧化钒薄膜结构与电性能的影响[J]压电与声光.2004,(06)
[2]吴淼,胡明,张之圣,刘志刚,温宇峰.真空蒸发法制备氧化钒薄膜的研究[J]硅酸盐通报.2005,(01)
[3]温宇峰,祖光裕,胡明,张之圣,刘志刚.Pt薄膜热敏电阻工艺研究[J]电子元件与材料.2002,(09)
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