单慧波
【姓名】 单慧波
【职称】
【研究领域】 物理学;无机化工;仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 对向靶溅射,膜性质,模拟计算,Monte Carlo,溅射过程,垂直磁记录介质,ZTM材料,Mg-PSZ,深冷,溅射条件,基板温度,磁控溅射,反冲原子,射频溅射,实验研究,膜结构,参数,莫尔条纹,溅射...
【工作单位】 天津大学
【曾工作单位】 天津大学;
【所在地域】 天津
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[1]单慧波,谈家琪,杨正方,袁启明.ZTM材料深冷表面处理的研究[J]硅酸盐通报.1996,(03)
[2]单慧波,谈家琪,袁启明.低温深冷表面处理提高Mg-PSZ陶瓷耐磨性研究[J]硅酸盐通报.1996,(04)
[3]单慧波,谈家琪,袁启明.低温应变片测定ZTC材料的马氏体相变温度[J]硅酸盐通报.1996,(05)
[4]祭瑞,单慧波,何乃文.一种用于对长直导轨的微小不平度进行动态测量的方法[J]天津城市建设学院学报.1996,(03)
[5]单慧波,谈家琪,吴厚政,董桂玲.Y_2O_3和MgO部分稳定ZrO_2陶瓷热稳定性和低温烧结研究[J]硅酸盐通报.1997,(02)
[6]单慧波,姜恩永,李金锷.溅射过程的Monte Carlo方法模拟计算[J]天津大学学报.1989,(02)
[7]姜恩永;单慧波;张西祥;李金锷;.对向靶溅射参数对CoCr膜性质的影响及CoCr软盘的研究[J]磁记录材料.1989,(02)
[8]姜恩永;单慧波;张西祥;张丙辰;.对向靶溅射参数对CoCr膜性质的影响[J]磁记录材料.1989,(01)
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