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杨金辉
【姓名】
杨金辉
【职称】
【研究领域】
金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】
釉化,釉护膜,渗硼,硼化物,碳化硅,氟化物,涂料,粘结剂,自保护膏剂渗硼,釉层,膏剂渗硼,45钢,试样表面,生釉,成熟温度,渗层深度,防氧化涂料,水玻璃,金属材料工程,渗硼剂,
【工作单位】
沈阳工业大学
【曾工作单位】
沈阳工业大学;
【所在地域】
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共找到1篇
[1]王占杰,邵会孟,杨金辉.
对碳化硅、硼化物、氟化物釉化规律及其应用的研究
[J]沈阳工业大学学报.1993,(01)
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