刘彦巍
【姓名】 刘彦巍
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Si加热器,双面,钛酸钡薄膜,薄膜,脉冲激光淀积,超导薄膜,BaTiO_3,激光分子束外延,铁电性质,激光法,非线性光学晶体,激光淀积,基片加热,BaTiO_3薄膜,氧发生器,PLD方法,物理实验室,...
【工作单位】 中国科学院物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院物理研究所;
【所在地域】 北京
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[1]周岳亮,熊旭明,吕惠宾,崔大复,陈正豪,杨国桢,李春苓,何萌,彭志强,刘彦巍,赵伯儒,许波,李林.用具有单晶硅辐射基片加热器和活性氧发生器的激光淀积系统制备双面YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜[J]科学通报.1996,(21)
[2]王会生,马昆,刘彦巍,彭志强,刘维,崔大复,吕惠宾,周岳亮,陈正豪,李林,杨国桢.BaTiO_3铁电薄膜的原子层水平外延生长[J]中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学).1997,(01)
[3]朱镛,刘彦巍,牛小娟,陈正豪.PLD方法制备的Ce∶BaTiO_3薄膜的电学及电光性质[J]人工晶体学报.1997,(Z1)
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