周生辉
【姓名】 周生辉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;轻工业手工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻胶显影模型,Marquardt法,同步辐射X射线光刻,显影速率,X射线光刻,光刻胶,同步辐射,光刻技术,甲基丙烯酸,微电,束线,含氯量,北京同步辐射装置,变量统计,分离度,研究中心,经验分布函数,...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]谢常青,陈梦真,王玉玲,孙宝银,周生辉,朱樟震.同步辐射X射线光刻中光刻胶显影速率模型研究[J]科学通报.1995,(21)
[2]谢常青,陈梦真,王玉玲,孙宝银,周生辉,朱樟震.Investigation on resist development rate model for synchrotron radiation X-ray lithography[J]Chinese Science Bulletin.1995,(10)
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