孙慧龄
【姓名】 孙慧龄
【职称】
【研究领域】 物理学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电子束,掺杂机理,HREM,离子计数,层错,堆垛,非晶层,离子注入,快速热退火,热效应,仪器噪声,磷离子注入,离子探针分析,红外双色测温仪,二次离子,杂质,电子束辐照,电效应,固相外延,杂质迁移,填隙...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]李岱青,任廷琦,万亚,朱沛然,徐天冰,孙慧龄.Yb~+注入Si(100)所引起的晶格损伤和快速热退火后Yb的再分布及光激活规律研究[J]科学通报.1994,(18)
[2]李岱青,任廷琦,宫宝安,朱沛然,徐天冰,孙慧龄.Yb注入Si后的退火结晶、杂质迁移及光致发光规律[J]物理学报.1995,(06)
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