刘键
【姓名】 刘键
【职称】 研究员;
【研究领域】 无线电电子学;金属学及金属工艺;工业通用技术及设备;
【研究方向】 化合物半导体器件和电路研制
【发表文献关键词】 AlGaN/GaN,跨导,HEMTs,HEMT,RF-MBE,高电子迁移率晶体管,氮化镓,场效应晶体管,分子束外延,HEMT器件,共源,功率器件,高跨导,二维电子,MBE生长,栅长,离子注入,栅宽,气...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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中国期刊全文数据库    共找到24篇
[1]刘键;胡跃明;冷兴龙;杜鹃;.等离子增强化学气相沉积法低温生长SiO_x薄膜的针孔缺陷修复[J]电子与封装.2020,(01)
[2]饶志鹏;万军;李超波;陈波;刘键;黄成强;夏洋;.In-Situ Nitrogen Doping of the TiO2 Photocatalyst Deposited by PEALD for Visible Light Activity[J]Plasma Science and Technology.2014,(03)
[3]刘键;.有机电子器件低温柔性薄膜封装ICP-PECVD系统[J]电子工业专用设备.2014,(07)
[4]刘杰;刘键;冷兴龙;屈芙蓉;刘俊标;吴茹菲;.全自动荧光粉涂覆工艺及设备研究[J]半导体光电.2013,(01)
[5]刘杰;刘键;冷兴龙;屈芙蓉;刘俊标;吴茹菲;.全自动荧光粉涂覆工艺研究[J]半导体技术.2013,(04)
[6]朱杰;麻芃;白云;刘键;.紫外日盲焦平面探测器成像处理系统研制[J]红外与激光工程.2011,(04)
[7]庞磊;蒲颜;刘新宇;王亮;李诚瞻;刘键;郑英奎;魏珂;.Annealing before gate metal deposition related noise performance in AlGaN/GaN HEMTs[J]半导体学报.2009,(05)
[8]庞磊;刘新宇;王亮;刘键;.Noise performance in AlGaN/GaN HEMTs under high drain bias[J]半导体学报.2009,(08)
[9]白云;麻芃;朱杰;刘键;刘新宇;.Ni/Au、Pd/Au与p-AlGaN材料的接触特性[J]功能材料与器件学报.2010,(01)
[10]饶志鹏;刘键;夏洋;.三维物体的重建方法[J]微纳电子技术.2010,(09)
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中国重要会议全文数据库    共找到3篇
[1]刘杰;刘键;冷兴龙;苏文明;李丰;.有机电子柔性封装的ICP-PECVD设备及薄膜制备工艺研究[A].2014中国功能材料科技与产业高层论坛摘要集.2014-08-26
[2]姚小江;刘新宇;刘键;魏珂;李诚瞻;刘丹;刘果果;陈小娟;和致经;.AlGaN/GaN HEMT器件高温退化机理研究[A].2005'全国微波毫米波会议论文集（第三册）.2006-02-27
[3]李诚瞻;刘键;刘果果;刘新宇;和致经;.钝化对AlGaN/GaN HEMTs栅电流的影响[A].2005'全国微波毫米波会议论文集（第二册）.2006-02-27
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