我的机构馆
退出
数字图书馆首页
CNKI首页
浏览器下载
帮助
俞耀辉
【姓名】
俞耀辉
【职称】
【研究领域】
物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
慢正电子束,离子注入,N~+注入,金属镍,正电子,中生成,S参数,离子注,慢正电子,正电子湮没,空位缺陷,缺陷浓度,固体,中国科学技术大学,参数曲线,深度分布,扩散参数,N+离子,线形参数,电子能量,
【工作单位】
中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】
中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】
上海
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
0
/
1
1
0
0
1
37
文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]韩荣典,翁惠民,徐纪华,郭学哲,林成鲁,俞耀辉.
慢正电子束研究N~+注入金属镍中生成的缺陷
[J]核技术.1993,(08)
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
车韵怡
东北工学院
戴伦
清华大学
胡勇
清华大学
梁波
武汉大学
黄长虹
武汉大学
郭学哲
中国科学技术大学
黄千峰
中国科学技术大学
谢力
中国科学技术大学
张少强
中国科学技术大学
任晓东
太原钢铁集团公司
韩为民
中国兵器工业部第五四研究所
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
韩荣典
中国科学技术大学
1
林成鲁
中国科学院上海冶金研究所
1
翁惠民
中国科学技术大学
1
徐纪华
中国科学技术大学
1
郭学哲
中国科学技术大学
1
更多