李志彭
【姓名】 李志彭
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 PECVD,SiON,互连工艺,针孔密度,绝缘膜,金属层,压应力,铝线,金属布线,研制和生产,膜的成分,张应力,双层金属,应力状态,台阶,俄歇,冶金研究,平整度,氮氧化硅,等离子增强,
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]曾天亮;陈平;江志庚;李志彭;.BPSG膜的沉积、性质及其应用[J]微电子学与计算机.1989,(02)
[2]曾天亮,陈平,江志庚,李志彭.PECVD SiON膜的性质及其在双层互连工艺中的应用[J]半导体学报.1992,(06)
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