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陈裕三
【姓名】
陈裕三
【职称】
【研究领域】
物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
薄膜厚度测定,Monte,Carlo模拟,x射线,计算应用,微区,膜厚测定,背散射电子,无衬底,吸收校正,二次荧光,GaAs衬底,椭圆,背散射系数,探针,模拟计算,原子序数,膜厚计算,激发深度,路径,
【工作单位】
中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】
中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到3篇
[1]何延才;黄月鸿;孙荆;陈裕三;.
用Monte Carlo模拟计算的φ(ρz)函数进行微区薄膜厚度测定的一个新方法
[J]无机材料学报.1981,(Z1)
[2]何延才,黄月鸿,孙荆,陈裕三.
Monte Carlo模拟计算应用于微区薄膜厚度测定
[J]物理学报.1982,(01)
[3]徐梅娣;陈裕三;刘湘林;.
激光椭偏仪多角入射法测定磁性石榴石薄膜的厚度和折射率
[J]应用激光.1985,(06)
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黄月鸿
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1
孙荆
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该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
黄月鸿
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1
何延才
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
黄月鸿
中国科学院上海硅酸盐研究...
1
何延才
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