张广军
【姓名】 张广军
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;计算机硬件技术;
【研究方向】 光通信和光存储材料的研究
【发表文献关键词】 AgInSbTe,相变薄膜,蓝光,相变光盘,高密度存储,反射率对比度,相变,反射率,溅射气压,光存储,晶化,沉积态,光盘,蓝绿激光,溅射功率,记录层,衬比度,Ge2Sb2Te5,溅射,磁控,记录性能,...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]张广军,顾冬红,王阳,吴谊群,干福熹.GeSbTe与AgInSbTe体系相变光盘的研究进展[J]物理.2004,(05)
[2]张广军,顾冬红,李青会,干福熹,刘音诗.工艺参数对新型AgInSbTe相变薄膜反射率的影响[J]激光与红外.2004,(05)
[3]张广军,顾冬红,李青会,干福熹,刘音诗.新型AgInSbTe相变薄膜的光学及记录性能[J]光学学报.2004,(11)
[4]张广军,顾冬红,干福熹.蓝绿激光作用下沉积态Ag_(11)In_(12)Sb_(51)Te_(26)相变薄膜的晶化性能[J]中国激光.2004,(11)
[5]张广军,顾冬红,干福熹.Ge_2Sb_2Te_5相变薄膜光学及擦除性能研究[J]光子学报.2005,(04)
[6]张广军,顾冬红,李青会,干福熹,刘音诗.新型AgInSbTe相变薄膜的结晶活化能研究[J]无机材料学报.2005,(01)
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