何乐
【姓名】 何乐
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 光刻模型、设备优化算法开发等方面的研究
【发表文献关键词】 激光技术,光刻技术,曝光场分布,寻优算法,产率,良率,优化算法,芯片,硅片,光刻机,内场,偏移量,优先,光刻设备,可靠性,利用率,优化软件,高性能,优化分布,优化标准,
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 北京中国
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