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陈文章
【姓名】
陈文章
【职称】
【研究领域】
化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
修饰反应,基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱,端基,高分子,质谱,监控,基质溶液,质量数,反应物,基质,激光解吸电离,基质辅助,加合离子,酯基,高分子化合物,水解反应,碱金属,谱图,绝对强度,质量范围,
【工作单位】
中国矿业大学(北京)
【曾工作单位】
中国矿业大学(北京);
【所在地域】
北京
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]陈友存,陈文章,刘光祥.
基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱用于高分子端基修饰反应的监控
[J]分析化学.2003,(01)
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