刘苏平
【姓名】 刘苏平
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 腐蚀液,抛光工艺,抛光液,钽薄膜,抛光,砷化镓,半峰宽,抛光速率,微波混合集成电路,刻蚀液,抛光布,X射线双晶衍射,光刻精度,光刻胶,抛光质量,金属薄膜,精密电阻,抛光面,抛光机,化学抛光,精密机械,...
【工作单位】 中国科学院西安光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院西安光学精密机械研究所;
【所在地域】
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[1]刘苏平.一种新型钽薄膜光刻腐蚀液[J]半导体技术.1988,(05)
[2]刘苏平,张国琦,高鸿楷,张济康.一种新型砷化镓抛光工艺的研究[J]半导体技术.1989,(03)
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