黄荣芳
【姓名】 黄荣芳
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;金属学及金属工艺;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 有机发光二极管,管道,热丝,热丝化学气相沉积,金刚石膜,电学、光学性能,温度场,电弧离子镀,模拟计算,材料科学基础学科,类金刚石膜,壁温度,金刚石薄膜,空间场,热辐射,电致发光,CVD金刚石,膜反应器...
【工作单位】 中国科学院金属研究所
【曾工作单位】 中国科学院金属研究所;
【所在地域】 辽宁沈阳
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/97 59 36 12 1066 16278
中国期刊全文数据库    共找到86篇
[1]汪爱英,孙超,黄荣芳,闻立时.热丝CVD方法中气体状态参数的二维模拟计算[J]材料研究学报.2003,(04)
[2]曹鸿涛,裴志亮,孙超,黄荣芳,闻立时,白峰,邓振波.透明导电薄膜ZnO:Al(ZAO)的性能及其在有机发光二极管中的应用[J]金属学报.2003,(03)
[3]邹友生,汪伟,宋贵宏,汪爱英,孙超,黄荣芳,闻立时.气体介质对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响[J]人工晶体学报.2003,(06)
[4]王启民,武颖娜,纪爱玲,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时.电弧离子镀沉积Al(Cr)-O-N扩散阻挡层的研究[J]金属学报.2004,(01)
[5]王启民,武颖娜,柯培玲,纪爱玲,孙超,黄荣芳,闻立时.电弧离子镀Ni-Co-Cr-Al-Y-Si-B涂层的热腐蚀性能[J]金属学报.2004,(04)
[6]邹友生,汪伟,郑静地,孙超,黄荣芳,闻立时.偏压对电弧离子镀沉积类金刚石膜的影响[J]金属学报.2004,(05)
[7]闻立时,黄荣芳.先进表面工程技术发展前沿[J]真空.2004,(05)
[8]王启民,郭明虎,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时.电弧离子镀沉积Cr-O-N活性扩散阴挡层[J]金属学报.2004,(12)
[9]汪爱英,柯培玲,孙超,黄荣芳,闻立时.热丝CVD大面积金刚石薄膜的生长动力学研究[J]新型炭材料.2005,(03)
[10]陈猛,白雪冬,黄荣芳,闻立时.In_2O_3∶Sn和ZnO∶Al透明导电薄膜的结构及其导电机制[J]半导体学报.2000,(04)
更多
中国重要会议全文数据库    共找到9篇
[1]闻立时;黄荣芳;.太阳能光伏科技和产业发展的新阶段[A].2009中国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2009-11-07
[2]杜昊;肖金泉;孙超;黄荣芳;闻立时;.电磁响应的又一种模式——声子波[A].2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集.2000-06-30
[3]黄美东;孙超;林国强;董闯;黄荣芳;闻立时;.脉冲偏压电弧离子镀低温沉积机理研究[A].2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集.2000-06-30
[4]王冰;宫骏;孙超;黄荣芳;闻立时;.电弧离子镀MCrAlY涂层元素的行为[A].2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集.2000-06-30
[5]黄荣芳;李沅芷;孙超;韩雅芳;刘庆泉;李聚丰;王启民;高宁一;宫骏;肖程波;刘建平;杨善发;王铁刚;李树索;戴恭;梁越;闻立时;.脉冲偏压电弧离子镀NiCoCrAlY涂层的产业化[A].2000年材料科学与工程新进展（上）——2000年中国材料研讨会论文集.2000-06-30
[6]闻立时;黄荣芳;.纳米科学和技术——高技术的物质技术基础(摘要)[A].中国科协2001年学术年会分会场特邀报告汇编.2001-09-01
[7]林国强;赵彦辉;白晓;董闯;黄荣芳;闻立时;.脉冲偏压电弧离子镀的低温沉积与大颗粒净化效应[A].TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2003-09-01
[8]闻立时;黄荣芳;.纳米科技普遍性原理的探讨[A].第六届中国功能材料及其应用学术会议论文集（8）.2007-11-01
[9]闻立时;黄荣芳;.薄膜硅太阳电池中的材料学和工程问题[A].2008全国功能材料科技与产业高层论坛论文集.2008-10-01
更多