刘元富
【姓名】 刘元富
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 脉冲高能量密度等离子体,内表面处理,离子注入,等离子体源,管型,鞘层,内表面改性,内表面等离子体源离子注入,等离子体鞘层模拟,TiN膜,离子鞘层,TiN薄膜,粒子模拟,等离子体源离子注入,流体模型,显...
【工作单位】 中国科学院物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院物理研究所;
【所在地域】 北京
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[1]杨思泽,张谷令,王久丽,刘斌,范松华,杨武保,刘元富.管型材料离子注入内表面改性研究进展[J]科学技术与工程.2003,(06)
[2]刘元富,张谷令,王久丽,刘赤子,杨思泽.脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究[J]物理学报.2004,(02)
[3]王久丽,张谷令,王友年,刘元富,刘赤子,杨思泽.等离子体源离子注入离子鞘层及鞘层扩展动力学计算方法[J]科学通报.2004,(05)
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