王玉玲
【姓名】 王玉玲
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;轻工业手工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氮化硼薄膜,等离子刻蚀,低压化学汽相淀积,光刻胶显影模型,超晶格,Marquardt法,同步辐射X射线光刻,显影速率,X射线光刻,光刻胶,同步辐射,X光,淀积速率,光刻技术,流比,硼膜,N原子比,恒温...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]谢常青,陈梦真,王玉玲,孙宝银,周生辉,朱樟震.同步辐射X射线光刻中光刻胶显影速率模型研究[J]科学通报.1995,(21)
[2]谢常青,陈梦真,王玉玲,孙宝银,周生辉,朱樟震.Investigation on resist development rate model for synchrotron radiation X-ray lithography[J]Chinese Science Bulletin.1995,(10)
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