陆晶
【姓名】 陆晶
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 微细加工技术中移相掩模设计及光刻工艺的研究工作
【发表文献关键词】 移相掩模,交替式移相掩模,相位冲突,光学临近效应校正,二元掩模,曝光分辨率,移相掩模技术,移相器,掩模版,无铬,实验室,移相方式,光刻图形,版图设计,光刻分辨率,分层技术,曝光技术,分辨率,nm技术,...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]陆晶,陈宝钦,刘明,王云翔,龙世兵,李泠.100nm分辨率的移相掩模技术[J]微细加工技术.2003,(04)
[2]陆晶,陈宝钦,刘明,龙世兵,李泠.100 nm分辨率交替式移相掩模设计[J]固体电子学研究与进展.2005,(02)
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