曾天亮
【姓名】 曾天亮
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 PECVD,玻璃膜,SiON,互连工艺,回流温度,氧离子,桥键,针孔密度,介质层,硅原子,方块电阻,N型,子键,掺杂氧化物,硼原子,钝化保护,MOS型,硼浓度,研制和生产,绝缘膜,硼磷硅玻璃,沉积温度...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]曾天亮;陈平;江志庚;李志彭;.BPSG膜的沉积、性质及其应用[J]微电子学与计算机.1989,(02)
[2]曾天亮,江志庚.CVD BPSG膜的沉积及其回流机理[J]半导体学报.1986,(04)
[3]曾天亮,陈平,江志庚,李志彭.PECVD SiON膜的性质及其在双层互连工艺中的应用[J]半导体学报.1992,(06)
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