余跃辉
【姓名】 余跃辉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 退火,Ge-SiO2薄膜,XPS谱,溅射,SiO_2薄膜,XPS研究,退火温度,价态转化,射频磁控,镶嵌薄膜,纳米,苏州大学,光致发光,薄膜样品,谱图,衍射特征,复合靶,退火处理,物理系,化学状态,
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]叶春暖,汤乃云,吴雪梅,诸葛兰剑,余跃辉,姚伟国.Ge-SiO_2薄膜的XPS研究[J]微细加工技术.2002,(01)
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[1]叶春暖;汤乃云;董业民;吴雪梅;诸葛兰剑;余跃辉;姚伟国;.Ge-SiO_2薄膜的发光研究[A].第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集.2001-10-01
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