王曦
【姓名】 王曦
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 界面,荧光薄膜,电子场发射性能,非晶金刚石薄膜,接触势垒,SOI,缺陷,Secc,电子场,线缺陷密度,硅岛密度,锗纳米镶嵌薄膜,SIMOX,发射性能,Si/SiO2界面,离子束,光致发光,低剂量,金刚...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]何平,江波,林曦,刘理天,田立林,李志坚,董业明,陈猛,王曦.一种采用局域注氧技术制备的新型DSOI器件(英文)[J]半导体学报.2003,(06)
[2]郑望,陈猛,陈静,林梓鑫,王曦.低剂量SIMOX圆片表层硅缺陷密度[J]半导体学报.2001,(07)
[3]陈猛,陈静,郑望,李林,牟海川,林梓鑫,俞跃辉,王曦.低剂量SIMOX圆片研究[J]半导体学报.2001,(08)
[4]李炜,茅东升,张福民,王曦,柳襄怀,邹世昌,诸玉坤,李琼,徐静芳.离子束溅射制备ZnO:Zn荧光薄膜[J]材料研究学报.2001,(01)
[5]董业民,叶春暖,汤乃云,陈静,吴雪梅,诸葛兰剑,王曦,姚伟国.锗纳米镶嵌薄膜的电致发光及其机制[J]功能材料.2001,(06)
[6]郑望,陈猛,陈静,林梓鑫,王曦.低剂量SIMOX圆片线缺陷和针孔的研究[J]功能材料与器件学报.2001,(04)
[7]江炳尧,郑望,王曦.等离子体浸没式离子注入圆形薄片均匀性研究[J]功能材料与器件学报.2002,(01)
[8]柳襄怀,王曦,邹世昌.用离子束控制材料电子发射性能及应用[J]上海金属.2002,(02)
[9]于伟东,王曦,陈静,张苗.等离子体基离子注入法制备SOI材料[J]功能材料.2002,(04)
[10]茅东升,赵俊,李炜,王曦,柳襄怀,诸玉坤,李琼,徐静芳.高sp~3键含量无氢非晶金刚石薄膜——出色的电子场发射材料[J]中国科学E辑:技术科学.1999,(01)
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[1]茅东升;王曦;李炜;柳襄怀;.金刚石薄膜电子场发射研究进展[A].华东三省一市第三届真空学术交流会论文集.2000-06-01
[2]王曦;杨根庆;柳襄怀;郑志宏;黄巍;邹世昌;.氙离子束轰击对氮气氛中沉积钛膜的影响[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
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