王连卫
【姓名】 王连卫
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 低压,α-SiC薄膜,绝缘层上硅,低功耗,激光淀积,β-FeSi_2,SOI电路,体硅,光学性质,SOI技术,α-SiC,AlN,ZnO,PLD,ArF准分子激光,超高真空,镀膜,脉冲激光淀积,功耗,...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]王玉霞,温军,郭震,汤洪高,黄继颇,王连卫,林成鲁.在Si(111)上脉冲ArF准分子激光淀积晶态定向α-SiC薄膜[J]半导体学报.2000,(06)
[2]林成鲁,王连卫,陈向东,沈勤我,郑立荣,倪如山.硅上β-FeSi_2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究[J]光电子·激光.2000,(03)
[3]多新中,张苗,符晓荣,王连卫,林成鲁.低压、低功耗SOI电路的进展[J]固体电子学研究与进展.2000,(01)
[4]刘彦松,王连卫,黄继颇,林成鲁.利用ZnO缓冲层制备AlN薄膜[J]压电与声光.2000,(05)
[5]韩永召,李炳宗,茹国平,屈新萍,曹永峰,徐蓓蕾,蒋玉龙,王连卫,张荣耀,朱剑豪.SiO_x调制的三元硅化物(Co_(1-x)Ni_x)Si_2外延[J]半导体学报.2001,(10)
[6]王玉霞,曹颖,何海平,汤洪高,王连卫,黄继颇,林成鲁.脉冲ArF准分子激光淀积SiC/Si(100)薄膜的最佳晶化温度及光致发光[J]半导体学报.2001,(10)
[7]刘彦松,王连卫,李伟群,黄继颇,林成鲁.用PLD法制备声表面波器件用ZnO薄膜[J]功能材料.2001,(01)
[8]刘卫丽,多新中,张苗,沈勤我,王连卫,林成鲁,朱剑豪.超高真空电子束蒸发在多孔硅上外延单晶硅[J]功能材料.2001,(06)
[9]刘卫丽,多新中,张苗,沈勤我,王连卫,林成鲁.多孔硅外延层转移制备SOI材料的研究[J]功能材料与器件学报.2001,(04)
[10]范秀强,张正番,刘永光,多新中,张苗,王连卫,林成鲁.十二位SOI/CMOS数模转换器的研制[J]功能材料与器件学报.2002,(01)
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