朱开贵
【姓名】 朱开贵
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 纳米InSb,射频共溅,纳米镶嵌复合薄膜,量子限域效应,量子限域,光吸收,InSb,磁控溅射,SiO_2薄膜,镶嵌复合,纳米,InAs,颗粒,膜的制备,固体物理,复合薄膜,镶嵌复合薄膜,半导,颗粒尺寸...
【工作单位】 中国科学院固体物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院固体物理研究所;
【所在地域】 合肥
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[1]石建中,朱开贵,姚伟国,贾俊辉,陈志祥,张立德.纳米InAs镶嵌复合薄膜的制备及光吸收[J]科学通报.1998,(12)
[2]朱开贵,石建中,魏彦峰,张立德.镶嵌在SiO_2薄膜中的纳米InSb颗粒的制备[J]科学通报.1998,(13)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]朱开贵;姚伟国;陈志祥;张立德;.LaNi_5薄膜的制备及其充、放氢过程的电阻特性[A].1996年中国青年学者物理学讨论会——薄膜材料与物理论文集.1996-06-01
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