王连卫
【姓名】 王连卫
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 PLD,PZT,过渡层,Al2O3,PZT薄膜,PZT铁电薄膜,脉冲激光法,衍射峰,多晶金刚石,钙钛矿相,硅衬底,上海微系统与信息技术研究所,金刚石,焦绿石相,铁电薄膜,快速退火,衬底温度,真空电子束...
【工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【所在地域】 上海
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[1]田菲;袁丁;王连卫;.自分离硅微通道的氧化[J]功能材料与器件学报.2009,(05)
[2]万青,王连卫,邢朔,章宁琳,沈勤我,林成鲁.以Al_2O_3为过渡层脉冲激光法制备PZT铁电薄膜[J]功能材料与器件学报.2002,(02)
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