董业明
【姓名】 董业明
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 SOI,边界热阻,SIMOX,热导率,埋氧层,垂直方向,热导,上海微系统与信息技术研究所,子学,离子束,氧化硅,微电,重点实验室,双栅器件,电阻,清华大学,三维有限元,阻模型,底座,背栅,
【工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【所在地域】 上海
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 1 1 0 2 62
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]何平,刘理天,田立林,李志坚,董业明,陈猛,王曦.SIMOX硅片埋氧层垂直方向热导率的测量[J]半导体学报.2003,(10)
更多