刘小林
【姓名】 刘小林
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 增透膜,KDP晶体,激光破坏,薄膜性能,保护膜,阈值,多孔二氧化硅,膜性能,增透,二氧化,透过率,透射谱,硅溶胶,透射率,透过谱,甲基硅酮,晶体,片基,提拉法,多孔二氧化硅薄膜,
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】
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[1]张伟清，唐永兴，乐月琴，蒋敏华，刘小林，孙今人.KDP晶体增透膜和保护膜性能研究[J]强激光与粒子束.1999,(02)
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