俞凯声
【姓名】 俞凯声
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 MISFET,等离子体阳极氧化,热分解淀积,迁移率比,工作速度,非水溶液,绝缘介质,热氧化,阳极氧化,使用频率,SiO_x,水溶液,Si_3N_4,氧化物,离子电流,氧化机制,氧化装置,氧等离子体,生...
【工作单位】 上海科技大学
【曾工作单位】 上海科技大学;
【所在地域】
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[1]陈志豪,俞凯声,王渭源.GaAs等离子体阳极氧化研究[J]科学通报.1983,(19)
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