徐彧
【姓名】 徐彧
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 仿真鸦ArF光刻机,光刻,光刻性能,光学系统,光学参数,光刻机,环形照明,波像差,工件台,四极照明,集线,线条,光刻仿真,0.5μm,临近效应,图形结构,曝光量,照明方式,光刻物镜,光刻技术,
【工作单位】 中国科学院电工研究所
【曾工作单位】 中国科学院电工研究所;
【所在地域】 北京中关村
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[1]李艳秋,黄国胜,徐彧,张飞.光学参数配置对ArF光刻性能影响研究[J]电子工业专用设备.2004,(02)
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[1]徐彧;李艳秋;.中心遮拦(Obscuration)对157nm光刻性能的影响[A].大珩先生九十华诞文集暨中国光学学会2004年学术大会论文集.2004-06-30
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