应再生
【姓名】 应再生
【职称】 副教授;
【研究领域】 无线电电子学;物理学;电信技术;
【研究方向】 微细加工技术的研究和教学
【发表文献关键词】 压强,反应离子刻蚀,低温等离子体技术,工艺参数,高频溅射,难熔金属,刻蚀速率,抽速,低温等离子体,辅助技术,光学波导,CMOS集成电路,波导开关,控制问题,铌酸锂,干涉调制器,波导,中功率,栅极,开关...
【工作单位】 上海交通大学
【曾工作单位】 上海交通大学;
【所在地域】 上海
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[5]单吉祥,应再生,沈启舜,曹庄琪.制备有机聚合物脊型光波导的新方法[J]微细加工技术.2000,(02)
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[7]应再生.硅的反应离子刻蚀小信号发射光谱法终点检测[J]微细加工技术.1987,(Z2)
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[9]应再生.CMOS集成电路难熔金属钼栅的高频溅射淀积和反应离子刻蚀[J]微细加工技术.1988,(02)
[10]应再生.钛的反应离子刻蚀[J]微细加工技术.1989,(02)
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