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[1]张永平,顾有松,常香荣,田中卓,时东霞,张秀芳,袁磊.用微波等离子体CVD制备C_3N_4薄膜[J]材料研究学报.2000,(03)
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[2]张永平,顾有松,常香荣,田中卓,时东霞,张秀芳,袁磊.超硬薄膜β-C_3N_4的制备和表征[J]功能材料.2000,(02)
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[3]顾有松,张永平,常香荣,田中卓,时东霞,张秀芳,袁磊.用MPCVD法制备氮化碳薄膜(英文)[J]人工晶体学报.2000,(03)
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[4]张永平,顾有松,常香荣,田中卓,时东霞,张秀芳,袁磊.MPCVD制备β-C_3N_4薄膜的成分和结构研究[J]人工晶体学报.2000,(S1)
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[5]张永平,顾有松,常香荣,田中卓,时东霞,张秀芳,袁磊.微波等离子体化学气相沉积法制备C_3N_4薄膜的研究[J]真空电子技术.2000,(01)
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[6]顾有松,张永平,常香荣,田中卓,陈难先,时东霞,张秀芳,袁磊.C_3N_4硬膜的人工合成和鉴定[J]中国科学(A辑).1999,(08)
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[7]李奇志,钱三德,袁磊.用CO和CH_4作为碳气源生长金刚石的比较[J]真空科学与技术.1994,(03)
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[8]王晓光,江月山,杨乃恒,袁磊,庞世道.α-WO_x薄膜电致变色反应中的结晶性能[J]材料研究学报.1997,(05)
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[9]赵敏学,顾有松,常香荣,田中卓,袁磊,张云汉,潘念东.β-C_3N_4的研究进展[J]真空科学与技术.1997,(02)
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[10]王晓光,江月山,杨乃恒,袁磊,王毓民.氧化镍及氧化钨薄膜电致变色机制的研究[J]真空科学与技术.1997,(04)
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