闫隆
【姓名】 闫隆
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Si(111)7×7表面,Ge团簇,锗,硅,二维Ge团簇超晶格,Si(111)-(7×7)表面,扫描隧道显微镜(STM),扫描隧道显微镜,自组织生长,团簇,Ge量子点,真空物理,选择性,单胞,临界核,...
【工作单位】 中国科学院物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院物理研究所;
【所在地域】 北京
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[1]闫隆,张永平,彭毅萍,庞世谨,高鸿钧.Ge在Si(111)7×7表面的选择性吸附[J]物理学报.2001,(11)
[2]张永平,闫隆,解思深,庞世谨,高鸿钧.Si(111)-(7×7)表面上Ge量子点的自组织生长[J]物理学报.2002,(02)
[3]闫隆,张永平,彭毅萍,庞世谨,高鸿钧.在Si(111)-(7×7)表面自组织生长二维Ge团簇超晶格[J]物理学报.2002,(05)
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