任晓辉
【姓名】 任晓辉
【职称】
【研究领域】 电力工业;
【研究方向】 电子材料研究
【发表文献关键词】 阴极箔,附着铜,铝铜合金,铝电解电容器,铜含量,浓硝酸,表面附着,浸洗,铝箔,比容,硝酸,酸含量,电子铝箔,稀硝酸,腐蚀过程,硬态,铜离子,电容器,四甲基硫脲,钝化膜,
【工作单位】 上海交通大学
【曾工作单位】 上海交通大学;
【所在地域】 上海
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[1]任晓辉,陈伟,张洪斌.低表面附着铜含量的铝阴极箔研究[J]电子元件与材料.2004,(02)
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