林彰达
【姓名】 林彰达
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 单晶硅衬底,AIN陶瓷,过渡层,金刚石膜,表面结构,生长速率,金刚石薄膜,初期生长,金刚石,异质外延生长,金属Ti,界面反应,光电子能谱,硅基底,高分辨电子能量损失谱,界面结构,张量LEED方法,生长...
【工作单位】 中国科学院物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院物理研究所;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/46 6 9 6 71 3312
中国期刊全文数据库    共找到44篇
[1]康健,肖长永,熊艳云,冯克安,林彰达.Si衬底上异质外延金刚石的初始阶段原子H的作用及其界面结构[J]物理学报.1999,(11)
[2]李晴,胡晓晖,林彰达.用低能电子衍射谱仪(LEED)观察氢终止的Si(111)表面[J]真空科学与技术.1994,(01)
[3]陈岩,陈启谨,崔玉德,孙碧武,林彰达.SiO_2层对金刚石膜初期生长影响的研究[J]真空科学与技术.1994,(06)
[4]沈电洪,包昌林,陆华,张小军,林彰达.Ti/AIN陶瓷界面反应的光电子能谱研究[J]物理学报.1995,(02)
[5]孙碧武,刘朝晖,林彰达.用表面分析方法直接研究亚稳态条件下金刚石的生长机理[J]自然科学进展.1995,(02)
[6]杨杰,陈启瑾,林彰达,王利新,金星,张泽.(001)取向硅基底上异质外延金刚石薄膜实验研究[J]自然科学进展.1995,(02)
[7]杨杰,陈启瑾,林彰达,王利新,金星,张泽.Heteroepitaxial diamond film formed on Si(OOl) wafer[J]Progress in Natural Science.1995,(02)
[8]胡晓明,林彰达.用低能电子衍射研究氢在Si(100)表面吸附引起的相变[J]物理学报.1996,(06)
[9]胡晓明,林彰达,M.A.VanHove.最新的Van Hove LEED程序库[J]物理.1996,(07)
[10]谢仿卿,张青哲,林彰达.近表面辉光放电促进金刚石在镜面抛光硅表面的形核[J]自然科学进展.1997,(05)
更多
中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]刘光诒;柯锦松;朱敏慧;朱长纯;淮永进;董晓;林彰达;.90年代中期制造新型金刚石阵列场发射体D—FEA的方法(二)[A].中国电子学会真空电子学分会第十一届学术年会论文集.1997-08-20
[2]刘光诒;张力先;朱长纯;刘金声;崔玉德;林彰达;.超长钨柱阵列场发射体导电衬底的改进及低电容门控的考虑[A].中国电子学会真空电子学分会第十届年会论文集(下册).1995-11-13
更多