王云翔
【姓名】 王云翔
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电子束投影曝光,PREVAIL,电子束曝光系统,套刻精度,T型纳米栅,PMMA/PMGI/PMMA三层胶复合结构,电子束曝光,移相掩模,InPPHEMT,SAL601,子场,抗蚀剂,凹槽图形,曝光,工...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]王云翔,刘明,陈宝钦,徐秋霞.SAL601负性电子束抗蚀剂纳米级集成电路加工[J]微纳电子技术.2003,(Z1)
[2]陆晶,陈宝钦,刘明,王云翔,龙世兵,李泠.100nm分辨率的移相掩模技术[J]微细加工技术.2003,(04)
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