王巍
【姓名】 王巍
【职称】 研究员;
【研究领域】 无线电电子学;计算机硬件技术;
【研究方向】 半导体工艺及先进工艺过程控制
【发表文献关键词】 终点检测,等离子体诊断技术,等离子体刻蚀,等离子刻蚀,刻蚀工艺,高密,椭偏法,质谱法,发射光,激光诱导,等离子体,谱法,荧光法,朗格,探针,光谱,多终点,深亚微米,超大规模集成电路,技术特点,实际运用...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]王巍,叶甜春,陈大鹏,刘明,李兵.高密度等离子体刻蚀机中的终点检测技术[J]微电子学.2005,(03)
[2]王巍,叶甜春,李兵,陈大鹏,刘明.高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术[J]半导体技术.2005,(03)
[3]牛旭花;叶青;王巍;黄令仪;叶甜春;.一种基于基本结构的CMOS CAM单元的优化设计[J]集成电路应用.2004,(08)
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[1]王巍;陈大鹏;刘明;叶甜春;李兵;.高密度等离子体刻蚀系统中诊断模型的初步分析[A].2004全国测控、计量与仪器仪表学术年会论文集（下册）.2004-09-01
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