李兵
【姓名】 李兵
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 x射线光刻,硅镶嵌微结构,LPCVD,SiNx膜,镶嵌复合膜,T形栅,束衍生法,模拟,同步辐射,内应力,x射线掩模,深亚微米,掩模,X射线光刻,光刻,x射线,纳米硅,面向对象编程,光学光刻,硅膜,镶嵌...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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中国期刊全文数据库    共找到8篇
[1]张庆钊;谢常青;刘明;李兵;朱效立;.硅栅干法刻蚀工艺中腔室表面附着物研究[J]微细加工技术.2007,(02)
[2]张庆钊;谢长青;刘明;李兵;朱效立;.90nm硅栅过刻蚀工艺中功率对等离子体性质的影响[J]半导体学报.2007,(10)
[3]张庆钊;谢常青;刘明;李兵;朱效立;马杰;.90nm技术节点硅栅的干法刻蚀工艺研究[J]微细加工技术.2007,(05)
[4]张庆钊;谢常青;刘明;李兵;朱效立;陈宝钦;.ICP等离子体刻蚀系统射频偏压的实验研究[J]半导体学报.2008,(05)
[5]杨清华,陈大鹏,叶甜春,刘明,陈宝钦,李兵,董立军.电子束散射角限制投影光刻掩模研制[J]光电工程.2004,(04)
[6]谢常青,陈大鹏,李兵,叶甜春,伊福廷,彭良强,韩勇,张菊芳.50nm及50nm以下同步辐射X射线光刻光束线设计[J]核技术.2004,(05)
[7]王巍,叶甜春,陈大鹏,刘明,李兵.高密度等离子体刻蚀机中的终点检测技术[J]微电子学.2005,(03)
[8]王巍,叶甜春,李兵,陈大鹏,刘明.高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术[J]半导体技术.2005,(03)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]王巍;陈大鹏;刘明;叶甜春;李兵;.高密度等离子体刻蚀系统中诊断模型的初步分析[A].2004全国测控、计量与仪器仪表学术年会论文集（下册）.2004-09-01
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