陈梦真
【姓名】 陈梦真
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;轻工业手工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氮化硼薄膜,低压化学汽相淀积,X线,同步辐射,X射线,光刻工艺,X光,镂空硅掩模,深层光刻,x射线,曝光剂量,光刻胶,X射线光刻,抗蚀剂,同步辐射软X射线,光刻胶显影模型,吸收体,光刻掩模,Stepp...
【工作单位】 中国科学院微电子研究所
【曾工作单位】 中国科学院微电子研究所;
【所在地域】 北京
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[1]刘渝珍,石万全,韩一琴,刘世祥,赵玲莉,孙宝银,叶甜春,陈梦真.LPCVD氮化硅薄膜的室温可见光发射[J]半导体学报.2000,(05)
[2]谢常青,陈梦真,王玉玲,孙宝银,周生辉,朱樟震.同步辐射X射线光刻中光刻胶显影速率模型研究[J]科学通报.1995,(21)
[3]谢常青,陈梦真,王玉玲,孙宝银,周生辉,朱樟震.Investigation on resist development rate model for synchrotron radiation X-ray lithography[J]Chinese Science Bulletin.1995,(10)
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