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[1]王培大,韩阶平,裴荣祥,洪啸吟.离子注入无显影刻蚀技术[J]半导体学报.1980,(03)
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[2]孙慧玲,陈鸣,王培大.硅中注入高剂量氮离子的研究[J]半导体学报.1982,(02)
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[3]王培大,辅阶平.离子束曝光的无显影刻蚀[J]微细加工技术.1983,(01)
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[4]孙慧龄,王培大,李秀琼,唐革非,徐嘉东,何彩霞,中国科学院电工所电子束加工组.砷化镓注硫的电子束退火[J]微细加工技术.1983,(02)
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[5]王培大,唐革非,徐嘉东,何彩霞.LC-1型离子注入机的改装[J]微细加工技术.1984,(04)
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[6]李秀琼,孙慧龄,王培大,唐革非,徐嘉东,何彩霞.电子束掺杂的应用——高浓度浅结的形成[J]微细加工技术.1984,(04)
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[7]李秀琼,孙慧玲,王培大.电子束掺杂磷[J]半导体学报.1984,(01)
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[8]韩阶平,王培大,马俊如,王守武.离子注入抗蚀技术[J]半导体学报.1985,(05)
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[9]韩阶平,王培大,马俊如,王守武.离子注入抗蚀技术[J]半导体学报.1986,(06)
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[10]韩阶平,王培大,徐卫东,金钟元,陈梦真.二氧化硅的表面改性[J]半导体学报.1988,(02)
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