刘明焦
【姓名】 刘明焦
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 抛光晶片,回摆曲线,亚表面,损伤层,晶片,SI-GaAs,表面损伤,Ｘ射线,层厚度,定量检测,X射线,本征缺陷,本体,离子注入,放大倍数,背散射,化学腐蚀法,有关化合物,透射电镜,明场,
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】 北京
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[1]曹福年,卜俊鹏,吴让元,郑红军,惠峰,白玉珂,刘明焦,何宏家.X射线回摆曲线定量检测SI-GaAs抛光晶片的亚表面损伤层厚度[J]半导体学报.1998,(08)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]刘明焦;曹福年;白玉珂;惠峰;吴让元;卜俊鹏;何宏家;.SI—GaAs中砷沉淀与微观均匀性的关系[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
[2]卜俊鹏;曹福年;白玉珂;吴让元;惠峰;刘明焦;何宏家;.SI-GaAs~(29)Si~+离子注入层性能研究[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
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