何杰
【姓名】 何杰
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅化物,多层膜,Si多层膜,原子,Si衬底,Raman谱,纳米硅,光致发光,红外谱,薄膜反应,火行为,轻稀土,退火温度,金属薄膜,反应机制,SiO_x,反应机理,共价键,混合层,过渡相,伴峰,薄膜的微...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/4 3 4 2 19 156
中国期刊全文数据库    共找到4篇
[1]马智训,廖显伯,程文超,岳国珍,王永谦,何杰,孔光临.氢化非晶氧化硅薄膜的微结构及光致发光的研究[J]中国科学(A辑).1998,(06)
[2]马智训,廖显伯,何杰,程文超,岳国珍,王永谦,刁宏伟,孔光临.SiO_x∶H(0[J]物理学报.1998,(06)
[3]何杰,许振嘉,钱家骏,王玉田,王佑祥.Ce-Si多层膜中铈硅化物的形成[J]半导体学报.1990,(12)
[4]何杰,许振嘉.一种新的反应机制——轻稀土金属薄膜与Si衬底的反应机理研究[J]物理学报.1993,(10)
更多