何宏家
【姓名】 何宏家
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 旁栅效应,MESFET,GaAs,机理分析,抛光晶片,GaAs衬底,半绝缘,抛光,损伤层,抛光速率,晶片,亚表面,位错,回摆曲线,化学机械抛光,亚表面损伤层,Hall测量,切片,砷化镓,化学去除,表面...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】 北京
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[1]李成基,李韫言,王万年,何宏家.半绝缘砷化镓Hall测量中的若干问题[J]功能材料与器件学报.2000,(04)
[2]杨君玲,陈诺夫,刘志凯,杨少延,柴春林,廖梅勇,何宏家.离子束外延生长半导体性锰硅化合物[J]半导体学报.2001,(11)
[3]杨君玲,陈诺夫,刘志凯,杨少延,柴春林,廖梅勇,何宏家.离子束外延生长(Ga,Mn,As)化合物[J]稀有金属.2001,(04)
[4]杨君玲,陈诺夫,叶小玲,何宏家.(Ga,Mn,As)/GaAs的发光谱[J]半导体学报.2002,(01)
[5]郑红军,卜俊鹏,何宏家,吴让元,曹福年,白玉珂,惠峰.GaAs化学机械抛光引入亚表面损伤层的分析[J]固体电子学研究与进展.1999,(01)
[6]郑红军,卜俊鹏,曹福年,白玉柯,吴让元,惠峰,何宏家.砷化镓晶片表面损伤层分析[J]稀有金属.1999,(04)
[7]陈诺夫,何宏家,王玉田,林兰英.低温分子束外延生长GaAs单晶的材料特性[J]中国科学(A辑 数学 物理学 天文学 技术科学).1996,(12)
[8]吴巨,何宏家,范缇文,王占国,张绵.半绝缘GaAs衬底中位错对MESFETs旁栅效应的影响[J]半导体学报.1997,(07)
[9]卜俊鹏,郑红军,何宏家,吴让元.GaAs晶片化学机械抛光的机理分析[J]固体电子学研究与进展.1997,(04)
[10]陈诺夫,何宏家,王玉田,林兰英.Properties of GaAs single crystals grown by molecular beam epitaxy at low temperatures[J]Science in China,Ser.A.1997,(02)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]刘明焦;曹福年;白玉珂;惠峰;吴让元;卜俊鹏;何宏家;.SI—GaAs中砷沉淀与微观均匀性的关系[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
[2]卜俊鹏;曹福年;白玉珂;吴让元;惠峰;刘明焦;何宏家;.SI-GaAs~(29)Si~+离子注入层性能研究[A].首届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1992-10-26
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