谷锦华
【姓名】 谷锦华
【职称】
【研究领域】 电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 绒面,多晶硅,减反射膜,多孔硅,化学腐蚀法,化学腐蚀,硅表面,腐蚀坑,多晶,反射特性,反射率,双层减反射膜,形貌,腐蚀液,物理工程,表面形貌,减反射,硅太阳电池,光的吸收,表面织构,
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】 北京
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[1]卢景霄,孙晓峰,王海燕,李维强,谷锦华.化学腐蚀法制备多晶硅的绒面[J]太阳能学报.2004,(02)
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